工作职责1.编写并维护工艺相关作业指导书、工艺规范、变更文档，确保符合公司质量体系与客户要求。2.建立并持续优化关键参数CPK与工艺窗口，确保量产工艺稳定性、一致性和可复制性。3.提供工艺支持，参与评估新材料、新结构、新参数对缺陷和良率的影响。4.与QC、FALab、设备工程等团队合作，对缺陷样品进行分析确认，推动问题根因分析与闭环改善。5.主导基于Sputter工艺的缺陷改善项目，通过数据分析和DOE识别关键因子，制定并执行改善计划，提升关键良率指标。6.与Sputter设备/硬件团队协同，推进OEE提升与降低成本。7.跟踪并分析主要KPOVs，对比参考产品和前代机种，评估Sputter工艺对HDD性能的影响并推动持续优化。8.参与制定并维护MediaRoadmap（介质工艺路线图），为新产品与工艺升级提供技术输入。职位要求1.本科及以上学历，材料科学、物理、微电子、机械、化学工程或相关专业。2.具有薄膜工艺相关经验，有磁记录介质、半导体、面板或真空镀膜（Sputter,PVD等）经验者优先。3.有量产工艺开发、良率改善或NPI项目经验者优先。4.熟悉Sputter/PVD原理及真空系统，了解Anelva、Intevac等设备平台者优先。5.具备对磁性和薄膜表征手段（如VSM、XRR、AFM等）的理解和数据解读能力。6.熟练使用统计分析工具（JMP/Minitab等），能够通过DOE、CPK等方法进行工艺优化。7.有HDDMedia工厂或相关行业（磁记录、真空镀膜）工作经验。8.参与过OEE提升、COST降低或大规模缺陷改善项目并取得显著成果。9.具备良好的问题分析与解决能力，能在紧迫的量产环境下推动问题闭环。10.良好的跨部门沟通与项目推动能力，乐于在多站点/多团队环境中合作。11.英文读写良好，能够阅读技术文档并进行基本的英文沟通。ESSENTIALDUTIESANDRESPONSIBILITIES1.Prepareandmaintainworkinstructions,processspecifications,andchangedocumentsforsputterprocessestoensurecompliancewithcorporatequalitysystemsandcustomerrequirements.2.EstablishandcontinuouslyoptimizeCPKandprocesswindowsforcriticalparameterstoensurestable,consistent,andrepeatablemassproductionprocesses.3.Supporttoevaluateimpactofnewmaterials,structures,andparametersondefectandyieldperformance.4.WorkwithQC,FAlab,andequipmentengineeringtoanalyzedefectsamples,identifyrootcauses,anddriveclosureofcorrectiveactions.5.Leadsputter-relateddefectreductionprojects,usedataanalysisandDOEtoidentifykeyfactors,andimplementactionplanstoimproveyieldKPIs.6.Collaboratewithsputterhardware/equipmentteamstodriveOEEimprovementandCost-savingprojects.7.TrackandanalyzekeyKPOVsandotherperformancemetrics,benchmarkagainstreferenceandpreviousgenerations,anddrivecontinuoussputterprocessoptimization.8.Participateinbuildingandmaintainingthemediaprocessroadmap,providingtechnicalinputfornewproductsandprocessupgrades.QUALIFICATIONSREQUIRED1.Bachelor'sdegreeoraboveinMaterialsScience,Physics,Microelectronics,MechanicalEngineering,ChemicalEngineering,orrelatedfields.2.Experienceinthin-filmprocesses;experienceinmagneticmedia,semiconductor,panel,orvacuumdeposition(sputter/PVD)isaplus.3.Experienceinmassproductionprocessdevelopment,yieldimprovement,orNPIprojectsispreferred.4.Familiarwithsputter/PVDfundament